2個喜訊傳來,解決晶片只剩時間問題,一旦突破再無他人立足之地

2個喜訊傳來,解決晶片只剩時間問題,一旦突破再無他人立足之地

文/Dong稽核/子揚 校正/知秋

中國半導體產業起步較晚,使得中國晶片行業發展受限,晶片供給被外資卡脖子已經成為不爭的事實。

雖然說在意識到晶片重要性之後中國奮起直追,中國半導體產業發展按下快進鍵,在晶片設計、製造以及晶片製造核心裝置方面,國產企業都取得了一定的進步。

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但不可否認的一點是,目前國產晶片的發展依舊存在相當大的短板。

國產晶片危機

中國作為全球晶片需求大國,2020年從國外進口約3800億美元的晶片。業內人士表示,目前中國晶片的自給率約為30%。

此前,中國工程院院士吳漢明也表示,即便中國晶片產業已經取得一系列成績,但是依舊要加速發展縮小與西方國家之間的差距。同時,吳漢明院士也提到了中國半導體產能不足的問題。

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實際上,從中國半導體產業目前的發展狀況來看,國內半導體企業在研發資金投入方面從未吝嗇。但是,晶片從設計到製造,再到晶片封裝,不僅僅需要先進的技術,還需要先進裝置的加持。

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舉個簡單的例子,想要製造高階晶片,離不開EUV光刻機。然而,目前全球半導體產業發展所需的EUV光刻機都依賴於從荷蘭ASML進口,受到種種因素的影響,中國無法如願從ASML手中進口所需要的EUV光刻機,這嚴重阻礙了中國晶片的發展程序。

國產晶片傳來2個喜訊

所以,為了保證晶片的國產化替代,當務之急除了技術進步之外還需要解決裝置供應受限的問題。而從目前的訊息來看,國產晶片傳來2個喜訊。

1、中國“光刻機第一股”問世

筆者前文提到,中國想要完全實現晶片的國產化替代,必須要解決好EUV光刻機供應受限的問題。但是受到眾所周知因素的影響,中國想要從荷蘭不受限制的進口EUV光刻機相當困難。而這,意味著中國想要解決光刻機難題必須實現自主研發。

只不過,想要實現光刻機的自研並非想象中那般簡單。荷蘭ASML甚至放話表示:即便公開圖紙,中國也無法造出光刻機。

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好在,中國人骨子裡就具備一種不服輸的精神。在業內專家的不斷努力下,國內企業在光刻機領域也取得了可喜的成果9月17日上交所科創板塊審查會議通過北京華卓精科科技股份有限公司的上市請求。這意味著華卓精科距離成為光科技第一股的越來越近。

資料顯示:華卓精科的主營業務為光刻機整機裝置及關鍵零部件的生產銷售服務。目前華住精科與清華大學作為共同專利人共計擁有162向專利技術,彌補了國產光刻機工作臺領域的空白。

倘若華卓精科能夠成功上市,將進一步促進國產光刻機的國產化替代。

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2、12英寸晶圓減薄機進入生產線

除了光刻機領域的進步之外,近日半導體行業還有一個好訊息——清華大學研發的第一臺12英寸超精密晶圓減薄機成功進入生產線。

據筆者瞭解,這臺12英寸的晶圓減薄機將應用於晶片的先進封裝級3D IC製造領域,極大滿足12英寸晶圓對於超精密減薄工藝的需求。

或許相較於光刻機,不少消費者對於晶圓減薄機的認識較少。實際上,作為半導體制造過程中的重要裝置,晶圓減薄機可以在晶片製造過程中將具備一定厚度的晶片不斷減薄到符合後續封裝工藝的標準。

此前,國外廠商嚴重壟斷了晶圓減薄機領域,國內市場嚴重依賴進口。如今,清華大學攻克難關,解決了該領域的卡脖子問題,為國產晶片的自主化替代掃清了障礙。

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寫在最後

無論是中國即將誕生光刻機第一股,還是清華大學研發的12英寸晶圓減薄機進入生產線,都解決了中國晶片發展過程中存在的一系列問題。

簡單點說,當晶片製造的相關裝置能夠實現國產化替代之後,解決晶片難題只剩下時間問題。一旦中國在相關領域實現突破,也就意味著國內晶片領域,再無他人立足之地。

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